Performans gereksinimlerinin analizititanyum hedeflerfarklı endüstrilerde
Gmail:alisa@jmyunti.com
I. Titanyum hedeflerinin temel performans gereksinimleri
① Saflık: Hedef malzemelerin ana performans göstergelerinden biri olan saflık, ince filmlerin performansı üzerinde hayati bir etkiye sahiptir. Pratik uygulamalarda hedef saflık gereklilikleri endüstriden endüstriye farklılık gösterir. Örneğin mikroelektronik endüstrisinde silikon plaka boyutunun sürekli artması ve kablo genişliğinin sürekli azalmasıyla birlikte hedef saflığa yönelik gereksinimler de artıyor. Geçmişte %99,995 hedef saflık, 0.35um IC'nin işlem gereksinimlerini karşılayabilirdi, ancak şimdi 0.18um çizgilerinin hazırlanması, hedef saflığın %99,999'a, hatta %99,9999'a ulaşmasını gerektiriyor.
② Safsızlık içeriği: Hedef katıdaki safsızlıklar ve gözeneklerdeki oksijen ve su buharı, biriktirilen filmler için ana kirlilik kaynaklarıdır. Bu nedenle, farklı amaçlara yönelik hedeflerin safsızlık içeriği açısından farklı gereksinimleri vardır. Örneğin yarı iletken endüstrisinde kullanılan saf alüminyum ve alüminyum alaşımlı hedeflerin alkali metal içeriği ve radyoaktif element içeriği açısından özel gereksinimleri vardır.
③ Yoğunluk: Hedef katıdaki gözenekleri azaltmak ve püskürtme filmin performansını artırmak için hedefin genellikle daha yüksek bir yoğunluğa sahip olması gerekir. Hedef malzemenin yoğunluğu sadece püskürtme hızını etkilemez, aynı zamanda filmin elektriksel ve optik özelliklerini de etkiler. Ek olarak, hedef malzemenin yoğunluğunun ve mukavemetinin arttırılması, püskürtme işlemi sırasında termal strese daha iyi dayanmasını da sağlayabilir. Bu nedenle yoğunluk aynı zamanda hedef malzemenin temel performans göstergelerinden biridir.
④ Tane boyutu ve tane boyutu dağılımı: Hedef malzeme genellikle çok kristalli bir yapıdır ve tane boyutu mikrondan milimetreye kadar değişebilir. Aynı hedef malzeme için, ince taneli bir hedefin püskürtme hızı genellikle iri taneli bir hedefin püskürtme hızından daha hızlıdır; ve tane boyutunda küçük bir fark olan bir hedefin püskürtülmesiyle biriktirilen filmin kalınlık dağılımı (düzgün dağılım) daha düzgündür.
2. Farklı endüstrilerdeki titanyum hedefleri için saflık gereksinimleri
① Entegre devrelerde kullanılan titanyum hedefler: Entegre devreler, filmin performansını ve stabilitesini sağlamak için titanyum hedefler için genellikle %99,995'in üzerinde son derece yüksek saflık gereksinimlerine sahiptir.
② Düz panel ekranlarda kullanılan titanyum hedefler: Düz panel ekranlar arasında sıvı kristal ekranlar, plazma ekranlar, elektrominesans ekranlar ve alan emisyon ekranları bulunur. Bu ekranlar genellikle üretim süreci sırasında ince filmleri biriktirmek için püskürtme kaplama teknolojisini kullanır. Bunlar arasında, önemli püskürtme hedeflerinden biri olan titanyum hedeflerinin genellikle %99,9'dan daha yüksek bir saflığa sahip olması gerekir. Ayrıca titanyum hedefler elektronik, bilgi endüstrisi, ev dekorasyonu ve otomotiv camı imalatı gibi ileri teknoloji alanlarında da yaygın olarak kullanılabilmektedir. Bu endüstrilerde titanyum hedefler esas olarak entegre devrelerin, düz panel ekranların kaplanması veya dekorasyon ve cam kaplama için kullanılır. Titanyum hedeflerinin performansını ve saflığını optimize ederek, farklı endüstrilerin film performansı ve stabilitesi gereksinimleri karşılanabilir.
Şirket: Baoji Dynamic Trading Co., Ltd
Ülke:Çin
Ekle:Baoti yolu,Jintai,Baoji şehri,Shaanxi,Çin
Cel:+86 18391896637(WHATSAPP)/18391894207
Gmail:alisa@jmyunti.com
Web sitesi: www.jm-titanium.com
